半导体处理设备

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半导体处理设备
申请号:CN202422504795
申请日期:2024-10-16
公开号:CN223333753U
公开日期:2025-09-12
类型:实用新型专利
摘要
本实用新型公开了一种半导体处理设备,其中半导体处理设备包括:输送装置,用于平移地输送载物圆片,载物圆片包括底片和半导体圆片;边缘空白剔除装置,包括升降机构和吸取机构,吸取机构包括若干吸取件,若干吸取件沿半导体圆片的周向布置,吸取件用于吸取半导体圆片的边缘空白;风干装置;不良品剔除装置,包括磁吸机构和收集件,磁吸机构位于载物圆片的上方,磁吸机构用于吸取不良芯片,收集件位于磁吸机构和载物圆片的下方,待载物圆片移走后,不良芯片下落至收集件。本实用新型的一种半导体处理设备,能够提高去除不良品的效率,同时,高效地去除半导体圆片的边缘空白。
技术关键词
半导体 圆片 吸取件 磁吸机构 吸取机构 不良品剔除装置 升降机构 输送单元 风干装置 底片 旋转盘 磁性墨水 芯片 识别器 升降轨道 导柱 标识 酒精 吸力
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