一种改善高粘性负胶匀胶胶丝残留装置

本实用新型涉及功率半导体制造技术领域，公开了一种改善高粘性负胶匀胶胶丝残留装置，不锈钢匀胶腔室配备吸盘电机连接轴，轴底接吸盘电机提供旋转，轴顶装旋转吸盘。腔室外侧装电动提升器，输出端接翻转座，座上装双层盖，盖上装滴胶管路，管路穿盖向下延伸。通过优化的匀胶设计，有效减少了晶圆背面和边缘的胶丝残留，从而降低了在后续光刻过程中出现破片、裂片等导致晶圆报废的问题。减少了晶圆边缘胶丝残留，进而减少了因胶丝残留造成的光刻版损伤，延长了光刻版的使用寿命。通过减少晶圆的报废率和光刻版的损伤，为高压大功率芯片的台面、引线等光刻匀胶工序提供了更合理的工艺方案，从而提升了整体的工艺良率。