一种晶圆抛光设备

本公开提供一种晶圆抛光设备，包括：用于暂存多片待抛光的晶圆的上料缓存区；用于对晶圆进行抛光处理的抛光装置；用于暂存已抛光的晶圆的下料缓存区；用于对已抛光的晶圆进行清洗、干燥处理的清洗干燥区；用于承接来自清洗干燥区的晶圆的最终下料区；用于在上料缓存区、抛光装置、下料缓存区、清洗干燥区及最终下料区之间转移晶圆的晶圆转移机构；用于控制上料缓存区、抛光装置、下料缓存区、清洗干燥区、最终下料区及晶圆转移机构的工作状态的控制单元，控制单元分别与上料缓存区、抛光装置、下料缓存区、清洗干燥区、最终下料区及晶圆转移机构连接。本公开的晶圆抛光设备能够实现晶圆抛光工艺段的自动上下料作业，提高生产效率。