摘要
本实用新型涉及激光芯片技术领域,具体涉及一种宽波长电吸收调制激光器芯片及其制备方法和应用。本实用新型提供的宽波长电吸收调制激光器芯片包括衬底、第一调制器层、第一前光栅层、第一增益层、第一相层、后光栅层、第二相层、第二增益层、第二前光栅层、第二调制器层、取样光栅、包层、电接触层、电隔离沟、P面电极和N面电极。取样光栅设置在第一前光栅层、后光栅层与第二前光栅层内。在所有功能层上方,依次堆叠有包层与电接触层,各功能层之间设置有电隔离沟,电接触层的上方设有P面电极,衬底下方设有N面电极。该芯片利用同一个后取样光栅反射区,实现同一集成芯片双端出光,速率和波长调谐性能翻倍的效果,大大降低集成芯片的功耗。
技术关键词
电吸收调制激光器
调制器
取样光栅
P面电极
波长
接触层
激光芯片技术
集成芯片
衬底
激光器芯片
波导结构
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