一种全光偏振开关的制备方法及系统

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正文
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一种全光偏振开关的制备方法及系统
申请号:CN202510027841
申请日期:2025-01-08
公开号:CN119644585A
公开日期:2025-03-18
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种全光偏振开关的制备方法及系统,所述方法包括:获取偏振开关的性能要求,所述性能要求为所述偏振开关对于各个类型的偏振光的透射、反射或者吸收的对应指标;根据预设参数构建初始仿真模型,所述初始仿真模型为本征手性共振硅基超构表面,由若干基本单元排列构成,每个所述基本单元包括一非晶硅薄膜和位于非晶硅薄膜上的两个硅椭圆柱体;根据所述性能要求,通过有限元法调整所述初始仿真模型的预设参数,直至所述初始仿真模型满足所述性能要求,获得偏振开关仿真模型;根据所述偏振开关仿真模型,使用微纳制备工艺制备获得所述全光偏振开关,提高偏振开关的波段适用范围和响应速度。
技术关键词
偏振开关 仿真模型 非晶硅薄膜 偏振光 长轴 反射光 参数 刻蚀工艺 模块 周期性 短轴 指标 形态
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