用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统

本申请涉及用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统，其中，该光刻校准方法包括：校准物镜将第一散射光束准直为校准准直光束；其中，投影物镜将光源发射的待调制光束汇聚在散射介质上，经散射介质将待调制光束散射为第一散射光束；校准物镜与散射介质的距离为预设对焦距离；校准会聚透镜于将接收到的校准准直光束会聚为校准光束；校准相机接收校准光束并进行拍摄，得到校准图像；校准控制器根据校准图像生成散射介质传输矩阵，并基于散射介质传输矩阵，校准光刻系统。通过本申请，解决了如何在确保光刻图案达到高精度要求的同时，有降低其生产成本的问题，实现了低成本、高分辨率的光刻效果。