基于多光谱成像的电子元器件外观缺陷检测方法及系统

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基于多光谱成像的电子元器件外观缺陷检测方法及系统
申请号:CN202510057489
申请日期:2025-01-14
公开号:CN119780119A
公开日期:2025-04-08
类型:发明专利
摘要
本发明提出了基于多光谱成像的电子元器件外观缺陷检测方法及系统,属于光学测量技术领域,包括:获取待检测电子元器件外观图像数据集,进行图像预处理,提取待检测电子元器件外观的感兴趣区域,获得感兴趣区域的多光谱图像;通过联合遗传算法和神经网络的光谱反射率重建方法,提取所述感兴趣区域的多光谱图像的光谱反射率特征和空间特征,并进行特征融合,形成感兴趣区域的空间‑光谱联合特征数据集,输入至训练好的外观缺陷检测模型,得到所述待检测电子元器件外观的缺陷类型及尺寸;显示待检测电子元器件的外观缺陷检测结果。本发明提高了电子元器件外观缺陷检测的准确性和检测效率。
技术关键词
光谱反射率特征 电子元器件 外观缺陷检测 多光谱成像 感兴趣 图像纹理特征 遗传算法 成像模块 光谱反射率重建 光源模块 数据 支持向量机分类器 梯度共生矩阵 支持向量机方法 BP神经网络模型 建立关系模型
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