一种FinFET工艺的标准单元布局优化方法及相关设备

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一种FinFET工艺的标准单元布局优化方法及相关设备
申请号:CN202510061510
申请日期:2025-01-15
公开号:CN119476185B
公开日期:2025-05-16
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种FinFET工艺的标准单元布局优化方法及相关设备,包括:根据标准单元初始布局信息、设计单元信息、物理约束信息和多目标要求构建布局优化初始模型,其中,布局优化初始模型包括决策变量、目标函数和约束条件;将布局优化初始模型进行模型映射优化操作,以获取多个决策变量子问题和子问题的约束条件;根据每个决策变量子问题进行量子映射,以获取每个决策变量子问题对应的等效哈密尔顿量;根据所有的决策变量子问题及其对应的等效哈密尔顿量通过量子近似优化算法,降低每个决策变量子问题对应的期望能量,并获取每个决策变量子问题的二进制变量解;将二进制变量解映射到标准单元的布局信息中,以获取标准单元优化布局信息。
技术关键词
标准单元布局 变量 决策 FinFET工艺 量子态 拉格朗日乘子法 算法 物理 优化装置 混合层 处理器 优化器 布线 小规模 可读存储介质 存储器 矩阵 电子设备
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