沉积用喷洒头及治具、前驱体用量评估装置及方法

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沉积用喷洒头及治具、前驱体用量评估装置及方法
申请号:CN202510066786
申请日期:2025-01-15
公开号:CN120384276A
公开日期:2025-07-29
类型:发明专利
摘要
本公开提供了一种沉积用喷洒头及治具、前驱体用量评估装置及方法。根据实施例,喷洒头包括在其喷洒面上的至少一个偏心或非对称设置的喷洒孔洞,用于使前驱体通过其中而向样品表面喷洒。
技术关键词
薄膜 评估装置 喷洒头 菜单 ALD工艺 气流 孔洞 芯片 原子层沉积 腔体 偏心 长条形 椭圆形 环形
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