一种基于一阶Mur吸收边界条件的电磁场仿真方法及系统

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一种基于一阶Mur吸收边界条件的电磁场仿真方法及系统
申请号:CN202510089842
申请日期:2025-01-21
公开号:CN119903711B
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于一阶Mur吸收边界条件的电磁场仿真方法及系统,涉及电磁场仿真邻域,方法包括以下步骤:构建针对FCC‑FDTD的一阶Mur边界条件;初始化电场参数和磁场参数,定义待仿真区域的介质参数和几何结构以及激励源;设置所述一阶Mur边界条件,基于所述一阶Mur边界条件对电场和磁场进行更新,完成仿真。本发明通过详细推导吸收边界上电场的迭代公式,构建了一种新型的一阶Mur边界条件,并通过新型边界条件来进行电磁场的仿真,与传统FDTD算法对比,本发明简单易行,便于实现,有助于FCC‑FDTD方法的广泛应用。
技术关键词
吸收边界条件 电磁场仿真 电场 网格 FDTD方法 参数 介质 方程 坐标 模块 仿真方法 仿真系统 尺寸 矩阵 定义 邻域 强度 算法
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