光刻区域的规划生成模型和方法

本发明公开了一种光刻区域的规划生成模型，包括：光罩板分配模型。光罩板分配模型包括：第一规划模型和第二规划模型。第一规划模型为以负载平衡为目标的规划模型，用于执行光罩板的第一次优化分配并得到光刻区域的各机台的最大平均负载值。第二规划模型以机台产能最大化为目标的规划模型，用于在光刻区域的各机台的最大平均负载值大于第一设定值时执行光罩板的第二次优化分配。本发明还公开了一种光刻区域的规划生成方法。本发明能在低负载时保证机台不闲置以及在高负载时保证机台效率最高。