一种用于粒子图像测速的大视场二维流场拼接校准方法

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一种用于粒子图像测速的大视场二维流场拼接校准方法
申请号:CN202510108407
申请日期:2025-01-23
公开号:CN119991434A
公开日期:2025-05-13
类型:发明专利
摘要
本发明涉及图像处理技术领域,解决了在大视场测量中多台相机间的流场拼接计算时拼接处矢量存在异常,以及对流速与实际流速存在偏差进行校准的技术问题,尤其涉及一种用于粒子图像测速的大视场二维流场拼接校准方法,包括数据采集、标定参数计算、标定参数校正、单应矩阵计算、PIV计算位移场、位移场拼接、尺度变换与偏移校准、计算速度场等步骤。本发明解决了在PIV‑2D2C大视场测量中多台相机间的流场拼接计算时拼接处矢量存在异常的问题,同时校准像平面与激光平面不完全平行时,计算流速与实际流速间的偏差,提高PIV的测量精度。并且通用性较强,且仅需额外拍摄1张标定图像即可完成拼接校准,操作简单,具有广泛的应用前景。
技术关键词
校准方法 投影模型 像素 矩阵 多项式 标定板 图像 粒子 激光器 迭代优化算法 参数 视差向量 同步控制器 表达式 坐标系 针孔相机
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