负片照射廓明成像方法及系统

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负片照射廓明成像方法及系统
申请号:CN202510111927
申请日期:2025-01-23
公开号:CN119854655A
公开日期:2025-04-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了负片照射廓明成像方法及系统,属于光学技术领域,其方法包括如下步骤:S1:搭建负片照射廓明成像系统;S2:采集CCD图像数据,对CCD图像数据进行初始处理;S3:对投影进行调整,完成土体形状特征的初步猜想;S4:通过算法迭代,将生成的预测投影效果和实际投影效果进行比对,不断优化,输出最终的高分辨率图像;S5:计算机根据最终的轮廓信息,对高分辨率图像进行处理,最终得到清晰的分辨率板图像。本发明解决现有的成像分辨率低、设备复杂且成本高及对样本有损伤或限制应用场景的问题。本发明可提高成像分辨率,降低设备复杂度和成本,可避免对样本造成损伤,适用于对样本完整性要求高的应用场景。
技术关键词
CCD图像数据 电荷耦合器件 成像方法 分辨率 激光束 偏振分光棱镜 图案 对比度 直方图均衡化 轮廓信息 控制空间光调制器 图像处理模块 检验光学系统 算法模块 激光器 抑制背景噪声
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