一种磁控溅射多尺度数值模拟方法、装置、设备、介质及产品

本申请公开了一种磁控溅射多尺度数值模拟方法、装置、设备、介质及产品，涉及仿真技术领域。本申请首先建立磁控溅射矩形靶磁场的有限元模型，求解平行靶面方向和垂直靶面方向的磁场分布；然后基于实验工艺参数，根据求解得到的磁场分布，对等离子体放电过程进行计算，获得入射靶面的离子的能量分布；然后通过MC算法计算Ar离子轰击靶材的过程，得到溅射出的靶原子角度和能量分布；再将入射靶面的离子的能量分布转化为靶面刻蚀轨道分布，根据溅射出靶原子的角度和能量分布，模拟溅射出靶原子从靶面到基体的输运过程，得到溅射出靶原子到达基体时的能量。本申请能够实现不同工艺条件下的磁控溅射过程的模拟和计算。