8寸芯片制造蚀刻机台AMEC氧化钇涂层部件的精密再生方法

本发明涉及半导体设备表面再生技术领域，尤其涉及8寸芯片制造蚀刻机台AMEC氧化钇涂层部件的精密再生方法，包括以下步骤：将玻璃珠磨料和水按照1:0.5的比例放入混合罐中，启动混合罐使磨料和水充分均匀混合，形成磨料混合液；将氧化钇涂层部件放置于湿式喷砂机内，喷射部位朝上，部件表面确定后，启动喷枪，在1.5kg/cm2压缩空气强大推力作用下，通过喷枪对部件表面进行喷砂处理；完成喷砂处理后，通过检测装置对部件表面的残留物进行检测，若发现残留物，重复上述步骤，直至露出干净、粗糙的膜层表面；喷射完成后的磨料和污水通过回收系统进行分离回收；本发明相较于原有气动抛光机打磨部件表面更加节省作业时间；对涂层孔隙内附着物清洗得更加彻底。