一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统

本发明公开了一种钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统，本发明涉及半导体处理技术领域，该系统包括：激光光源模块，用于产生高重复率、可调激光功率、频率和光束扩散角的飞秒激光脉冲；光学路径控制模块，配置有光学元件组、光学元件对准系统、光束整形器及自适应光学元件，用于调整激光束的路径、聚焦和能量分布；其中，所述自适应光学元件包括可调变形镜和液晶空间光调制器。该钙钛矿薄膜的飞秒激光刻蚀方法及系统，结合实时波前监测与畸变校正以及光学元件驱动系统，确保了光学路径的稳定性和一致性，解决了传统刻蚀方法难以在大面积薄膜上保持刻蚀的一致性和均匀性，导致器件性能的不稳定和降低的问题。