一种用于光刻掩模优化的梯度计算方法和系统

本申请属于光刻掩模优化领域，具体公开了一种用于光刻掩模优化的梯度计算方法和系统。通过本申请，借助于伴随方法，将掩模吸收层的衍射场在空间上展开，避免了电场之间的强干涉和波动，从而可以使用三维衍射场的一个二维切片计算梯度，此时不必保存整个三维衍射场，仅需保存几个二维切片，因此，极大节省了计算资源。同时，本申请对各步骤具体使用的算法无限定要求，实现算法的解耦。