基于神经网络CMP模型的哑元填充优化方法及系统

本发明提供了一种基于神经网络CMP模型的哑元填充优化方法及系统，其中方法包括：将芯片布局划分为多个窗口，将每一个窗口作为填充优化的基本填充单元；根据设计规则提取每一个窗口的可填充区域；基于神经网络CMP模型的预测高度和设计规则，分配每一个窗口的目标高度；基于所述可填充区域和所述目标高度，利用多目标遗传算法生成填充参数并进行优化。本发明用于提高化学机械抛光工艺中的表面平整度，并优化填充布局设计。该方法结合多目标遗传算法实现高效且精确的多目标优化，不仅提高了高度变化的预测精度，还显著优化了填充方案的综合性能。