光学器件加工面形的控制方法及系统

本发明提供了一种光学器件加工面形的控制方法及系统，该方法包括：对光学器件进行初始研磨与抛光，利用多频段应力探测器实时检测，获取应力散布及表面波前数据，得到初始检测结果；利用相移干涉仪和复合激光共焦探头基于初始检测结果进行深度面形测定，对异常区域自适应修整，得到面形修整日志；依据初始检测结果与修整日志，执行分阶负载照射与应力跟踪，采集光热耦合下的面形变化，得到面形演变信息；根据面形演变信息，进行分区动态补偿并实时检测，直至获得符合要求的面形控制结果。该方法通过多频段应力探测与高精度干涉测量结合，识别并修正内部应力释放导致的二次形变，实现光学器件面形的高精度控制，适用于对光学元件面形要求高的场景。