用于校正用于制造半导体装置的掩模的设备和方法

呈现一种用于校正光掩模的方法，其包括接收半导体装置的目标设计布局。该方法包括由处理器通过将基于目标设计布局的掩模布局的光学特征值、几何特征值和抗蚀剂特征值输入到第一机器学习模型中来推断掩模偏差。处理器通过将掩模偏差并入掩模布局中来生成预测图案，将预测图案与目标设计布局进行比较，并且然后基于预测图案与目标设计布局之间的比较结果来校正掩模布局。