设计技术协同优化的方法和装置

本发明公开了一种设计技术协同优化的方法，包括：步骤一、根据设计规则形成受限设计规则。步骤二、按照受限设计规则并采用图形产生器形成第一图形，第一图形为受限设计规则图形。步骤三、采用TCAD模型对第一图形进行仿真并得到第一仿真结果。步骤四、采用OPC模型对第一图形进行仿真并得到第二仿真结果。步骤五、结合第一仿真结果和第二仿真结果进行设计规则检查并修改设计规则。重复步骤一至步骤五直至第一仿真结果和第二仿真结果满足要求。本发明还提供一种设计技术协同优化的装置。本发明实现将图形产生器形成的受限设计规则图形应用于TCAD和OPC仿真中以实现设计技术协同优化，能获得最佳的器件电气性能和芯片制造的最佳制程窗口。