一种用于调整射流轨迹的控制方法

本发明提供一种用于调整射流轨迹的控制方法，包括：获取金属喷头的泰勒锥角处于稳定状态下的射流轨迹的图像，并对图像进行处理，得到射流轨迹的第一偏移角度；根据第一偏移角度，控制位于射流轨迹旁侧的电极板上的电压，来粗调射流轨迹的偏移角度；再次获取经过初步调整后的射流轨迹的第二偏移角度；根据第二偏移角度，控制位于金属喷头下方的等电位环的水平位置，用于精调射流轨迹的偏移角度。该方法通过在射流轨迹旁侧设置电极板，利用电极板所产生的斥力来对射流轨迹的偏移角度进行粗调，再通过调整等电位环的水平位置，来实现射流轨迹偏移角度的精调，从而让射流轨迹尽量沿垂直方向，避免液滴形成的微球/微胶囊的不均匀的问题。