一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法

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一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法
申请号:CN202510228382
申请日期:2025-02-28
公开号:CN119828423B
公开日期:2025-10-10
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法,方法包括以下步骤:S1、获取标准化后的数据;S2、采用RANSAC回归算法,得到稳健回归残差分析置信度;S3、基于隔离树异常分数得到隔离树置信度;S4、采用局部离群因子法得到局部离群因子置信度;S5、综合隔离树置信度和局部离群因子置信度得到无监督置信度;S6、得到高斯置信度;S7、综合稳健回归残差分析置信度、无监督置信度和高斯置信度得到综合置信度,得到用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估结果。与现有技术相比,本发明具有提高光刻工艺窗口分析的输入数据质量等优点。
技术关键词
光刻工艺窗口 无监督 数据 回归算法 因子 异常点 尺寸 低密度 矩阵 非线性 关系
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