芯片版图的修正方法、介质、产品及设备

本发明提供了一种芯片版图的修正方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括：识别芯片版图中的目标修正图形；获取目标修正图形中的多条待修正边；生成目标修正图形对应的多个防自交修正方案，多个防自交修正方案由目标修正图形中多条待修正边分别作为起始修正边进行逐轮递进修正得到；从多个防自交修正方案中选取出目标修正方案。通过此方法，无需设计繁琐的规则和根据经验调整版图便能够避免图形修正中出现不合理图形，从而实现自动化修正，提高修正效率，进而达到提高光刻工艺水平的目标。