一种提高晶圆堆叠良率的原位修复封装方法

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一种提高晶圆堆叠良率的原位修复封装方法
申请号:CN202510241189
申请日期:2025-03-03
公开号:CN120261291A
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片封装技术领域,具体地说是一种提高晶圆堆叠良率的原位修复封装方法。包括如下步骤:S1,对晶圆上Fail Die进行剥离,形成空槽;S2,在空槽内进行点胶;S3,提供Good Die,通过Die to Wafer与空槽进行对位填充,使填充的Good Die的平面略高于晶圆平面;S4,通过整平载片对Good Die进行垂直加压,放入烤箱固化;S5,固化后,移除整平载片,对晶圆进行清洁;S6,对空槽内进行PECVD填充;S7,对晶圆表面进行CMP抛光清洁,并露出焊盘。同现有技术相比,直接对晶圆进行修复,去除Fail Die,使其变成KGW(Known Good Wafer),最终实现晶圆键合良率提升。
技术关键词
封装方法 晶圆 原位 CMP抛光 露出焊盘 凸点制作工艺 芯片封装技术 激光烧蚀 堆叠结构 点胶 烤箱 光斑 胶水 水量 正面
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