一种模型的制备方法

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一种模型的制备方法
申请号:CN202510249437
申请日期:2025-03-04
公开号:CN119974515B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种模型的制备方法,包括以下步骤:采用含有双键的硅氧烷化合物对硅基基底进行化学修饰,得到化学修饰的硅基基底;将所述化学修饰的硅基基底固定在金属平台上,按照预先构建的模型进行3D打印,在化学修饰的硅基基底上形成模型;将形成有模型的硅基基底与3D打印机的金属平台分离。本申请采用含有双键的硅氧烷化合物对硅基基底进行化学修饰,提高了模型与硅基基底的粘附力,从而能够在平整光滑的硅基基底打印尺寸小至10μm的微小模型。而且,本申请直接在硅基基底上进行模型的制备,可以直接得到硅基芯片或者微流控芯片。另一方面,本申请可以采用酸液处理使模型与硅基基底分离,不会对模型,尤其是微小模型造成损伤。
技术关键词
硅氧烷化合物 基底 甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷 过氧化氢溶液 光固化树脂 环氧丙烯酸酯树脂 打印机 二氧化硅陶瓷 聚氨酯丙烯酸酯 浓硫酸 清洗液 平台 酸液 微流控芯片 乙烯基三 氢氟酸 硅片
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