一种自动光学检验系统中缺陷图谱的选择方法

本发明公开了一种自动光学检验系统中缺陷图谱的选择方法，其在系统中预置设计图谱数据库、实际图谱数据库和图谱判断系统；系统将读取到的待测晶圆片的Wafer ID发送给图谱判断系统；图谱判断系统根据待测晶圆片的Wafer ID，分情况执行，不同批次的晶圆是先判断实际图谱数据库中是否存在与待测晶圆片的Wafer ID相同的实际图谱，若存在，按照实际谱图中有效芯片的分布来检验待测晶圆片表面的缺陷芯片，得到缺陷图谱；若实际图谱数据库中不存在待测晶圆片的Wafer ID的相应图谱，则从设计图谱数据库中调取相同Wafer ID的设计图谱，检验出待测晶圆片表面的缺陷芯片，得到缺陷图谱。本发明能够减少缺陷图谱的数量，提高缺陷判别的效率，提高芯片检测的准确性和速度。