离子注入机控制系统及氢氦同轴离子注入机

本申请涉及一种离子注入机控制系统以及离子注入机，包括：上位机、下位机、气体流量控制器以及传感器系统；其中传感器系统设于离子注入机上，气体流量控制器连接在离子注入机的离子源的进气管道上，下位机连接各个气体流量控制器以及传感器系统；传感器系统用于检测离子注入机的实时状态参数并发送至下位机；气体流量控制器用于检测气体的流量参数上传至下位机；下位机将传感器系统检测离子注入机的实时状态参数上传至上位机，以及接收上位机下发的各种气体进气量的控制参数，并根据控制参数调节各个气体流量控制器的进气量；上位机配置为对离子源的进气量进行调节；该技术方案，提升了控制效率，提高了控制准确性。