摘要
本申请提供了一种光学邻近效应校正方法、系统、电子设备及存储介质。该光学邻近效应校正方法包括提供参考结构,对参考结构进行光学邻近效应校正处理,获取特征尺寸不同的多个线端图形的圆角化采集数据;根据多个特征尺寸和圆角化采集数据,构建圆角化预测模型;将目标版图的特征尺寸输入圆角化预测模型,利用圆角化预测模型生成目标版图的圆角化预测数据。该光学邻近效应校正方法能够准确地预测不同特征尺寸的目标版图在光学邻近效应校正后的圆角化程度,为OPC验证提供参考。
技术关键词
线性回归模型
光学邻近效应
版图
尺寸
校正系统
数据采集模块
线端
电子设备
处理器
可读存储介质
多晶硅
程序
指令
存储器
计算机
参数
系统为您推荐了相关专利信息
缺陷识别方法
光学检测器
图像
三维模型
检测组件
三维点云数据
纹理特征
注意力
线性回归模型
决策树模型
库房信息
单件
车辆地理位置
地理位置信息
运输路径规划