用于石英晶体的激光双面刻蚀应力控制方法及系统

本发明涉及激光刻蚀技术领域，公开了用于石英晶体的激光双面刻蚀应力控制方法及系统，该方法包括：基于石英晶体初始应力分布生成双面互补刻蚀路径。同步控制正反面激光能量输入，以使双面热应力场形成动态平衡。基于光谱分析实时获取刻蚀区域的应力梯度分布。根据应力梯度与目标阈值的偏差量，动态调整激光加工参数组合，并在终局加工阶段启动形貌‑应力耦合优化模式。本发明通过精准控制激光加工过程中的热应力平衡和应力梯度分布，能够有效减小石英晶体的残余应力，优化其形貌和性能，从而提高加工精度、材料稳定性和器件可靠性。