一种基于约束规则函数化与层检测的版图布局方法及装置

本发明涉及一种基于约束规则函数化与层检测的版图布局方法及装置，包括以下：获取目标工艺的电路网表；根据所述电路网表进行器件初始化，生成所有器件的初始模型；读取目标工艺的PDK文件，基于所述PDK文件提取DRC约束规则并形成规则函数；读取所述电路网表中的任意一个器件；进入所述器件的参数修改阶段，判断所述器件是否存在参数修改需求，若存在则进行参数修改并封装，若不存在则无需进行参数修改；在完成所述参数修改阶段后，通过层检测布局算法进行版图布局。本发明所提出的一种基于约束规则函数化与层检测的版图布局方法及装置，能够生成高面积利用率，无DRC报错，可以直接进入下一生产流程的版图布局结果。