摘要
本公开提供了一种微型发光二极管芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。该微型发光二极管芯片包括外延层、第一钝化层和平坦层;外延层的一面具有沟道凹槽;第一钝化层位于外延层的一面,且覆盖沟道凹槽;平坦层位于第一钝化层背向外延层的一面,平坦层包括依次叠设的第一平坦化胶层、第二平坦化胶层和第三平坦化胶层,第一平坦化胶层、第二平坦化胶层和第三平坦化胶层的厚度比为4.5:3.5:2。本公开可以提高微型发光二极管芯片的可靠性。
技术关键词
微型发光二极管芯片
沟道凹槽
平坦层
外延
氧化硅
功率
电极
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刻蚀方法
外延层结构
光刻图形化
正性光刻胶
等离子刻蚀设备
空心二氧化硅微球
外墙涂料
细度
多元线性回归模型
隔热
红外光源芯片
发光薄膜
多晶硅
单晶硅
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