光刻胶光酸浓度分布确定方法

本申请公开了一种光刻胶光酸浓度分布确定方法，涉及半导体光刻技术领域。该方法包括：获取光刻胶中光酸的初始纵向浓度分布数据；根据光酸浓度函数和光刻胶的扩散系数，构建光酸纵向扩散模型；根据初始纵向浓度分布数据，对光酸纵向扩散模型进行时域差分离散化处理，求解得到不同时刻下、光刻胶中的光酸纵向浓度分布数据。本方法，利用光刻胶中光酸的初始纵向浓度分布作为初始条件，对该光酸纵向扩散模型进行时域差分离散化处理，可高效求解不同时刻下光酸纵向浓度分布，能够快速且准确地预测光酸在光刻胶中的纵向扩散过程。