一种数据驱动的CVD-SiC沉积速率预测模型及方法

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一种数据驱动的CVD-SiC沉积速率预测模型及方法
申请号:CN202510387584
申请日期:2025-03-28
公开号:CN120217892A
公开日期:2025-06-27
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种数据驱动的CVD‑SiC沉积速率预测模型及方法,属于陶瓷基复合材料和半导体材料技术领域,包括反应器、石墨片和沉积试样,反应器和沉积试样均设置在反应器内部,反应器紧贴反应器内壁,沉积试样通过碳纤维悬挂在反应器内部的中间位置,反应器的内部为反应腔,本发明采用上述结构的一种数据驱动的CVD‑SiC沉积速率预测模型并结合预测方法,通过建立更加简洁的化学反应模型和传热传质的多场耦合,可准确预测不同工艺条件下的沉积表面的沉积速率,同时利用机器学习方法建立工艺条件‑沉积速率的准确关联函数构建了高效且准确的实验参数和沉积速率之间的联系,实现了数值模拟与机器学习的结合。
技术关键词
速率预测方法 CVD工艺 绝热层 半导体材料技术 壁式反应器 数据 斯托克斯方程 陶瓷基复合材料 甲基三氯硅烷 仿真模型 特征值 K近邻算法 机器学习方法 机器学习算法 样本 参数 物理 密度
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