适用于近场成像的分布式稀疏MIMO阵列结构设计方法

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适用于近场成像的分布式稀疏MIMO阵列结构设计方法
申请号:CN202510396019
申请日期:2025-03-31
公开号:CN120334909A
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本申请涉及一种适用于近场成像的分布式稀疏MIMO阵列结构设计方法,其中,方法包括:基于稀疏MIMO阵列的分布特点和尺寸确定的至少一个待优化变量,得到每个粒子的初值以及稀疏MIMO阵列的初步结构,并将沃罗诺伊图法与空变频谱的有效权重分布相结合提出一种新型优化函数,计算每个粒子的适应度,确定位置和全局最优适应度;计算退火算法的初始温度和全局最优位置;更新速度和适应度,进行退火操作直至满足迭代终止条件,生成优化后的单模块分布式稀疏MIMO阵列。由此,解决了相关技术中,MIMO阵列设计方法在近场SAR成像中出现明显栅瓣、以及优化目标函数局限性所导致SAR图像性能下降等问题。
技术关键词
MIMO阵列 结构设计方法 粒子 退火算法 结构设计优化方法 变量 成像 单输入单输出 多输入多输出 模块 速度 计算机程序产品 处理器 优化装置 记录单元 转换单元 图像 可读存储介质 方位角
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