一种基于垂直增益腔的硅基外腔激光器

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一种基于垂直增益腔的硅基外腔激光器
申请号:CN202510446040
申请日期:2025-04-10
公开号:CN120320156A
公开日期:2025-07-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于垂直增益腔的硅基外腔激光器,属于半导体激光器领域。包括垂直发射芯片和硅基外腔芯片,所述垂直发射芯片主要特点是光垂直于芯片表面发光,作为激光器的光学增益区,硅基外腔芯片包括耦合器、调相区、光反射器与输出区。通过光反射器进行模式选择并实现光反馈,与垂直发射芯片一起形成激光谐振腔,实现单波长工作;通过调相区调节波长相位。本发明具有大发光面特点,可以实现高功率输出,容易与硅基芯片耦合,工艺简单且具有极高工艺容差;通过硅基外腔芯片的片上集成,实现小尺寸的技术效果;通过设计高Q带通性能的光反馈机制实现激光器选模,波长覆盖范围广,达到外腔激光器的单模、窄线宽技术效果。
技术关键词
芯片 光反射器 可调谐微环谐振器 激光谐振腔 可调谐光栅 布拉格反射镜 外腔激光器 半导体激光器 耦合器 光子晶体 透镜 波导 发光面 接触层 光波长
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