一种基于激光辐照预测光学元件损伤演化的方法

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一种基于激光辐照预测光学元件损伤演化的方法
申请号:CN202510450019
申请日期:2025-04-11
公开号:CN119962332B
公开日期:2025-09-09
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学元件技术领域,尤其涉及一种基于激光辐照预测光学元件损伤演化的方法,首先获取光学元件的物理参数(氧硅比、透射率、吸收系数)和激光辐照参数(波长、能量密度、重复频率),接着,建立多环境损伤预测模型,映射环境参数与损伤阈值关系;构建氧硅比‑透射率‑损伤阈值关联模型,分析物理参数随激光发次演化;建立热-光-力多物理场耦合模型,探究损伤机制,最终,通过这些模型预测不同发次激光辐照后光学元件的损伤阈值演化,得出损伤阈值变化趋势曲线和临界损伤点,建立了基于物理参数的损伤预测模型,实现了对光学元件损伤演化的提前预测,减少了实验周期,提高了评估效率。
技术关键词
多环境 激光 参数 物理场相互作用 构建微观结构 光学元件技术 单脉冲 桥接系统 时空分辨 校准机制 模型校准 预警机制 应力 预测误差 效应 压力 曲线
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