一种掩模图形优化方法、装置、电子设备以及存储介质

本申请公开了一种掩模图形优化方法、装置、电子设备以及存储介质，包括：基于初始掩模检查规则，对初始掩模图形进行规则检查和优化。对因初始优化后产生的衍生掩模图形进行规则检查，在确定衍生掩模图形不符合检查规则时，重新对未优化前的初始掩模图形进行优化。然后还可以再次进行规则匹配，对不满足检查规则的优化后掩模图形再次优化。本申请的技术方案充分考虑到了的衍生图形对于掩模版图的影响，有效提升了掩模图形优化过程的处理效率和实用性。同时还可以使得每次进行掩模优化时选择的掩模检查规则都可以与掩模图形精准对应，有效提高了掩模制造规则检查过程的检测精度和效率，为后续芯片生产过程的生产质量和芯片良率提供有力保障。