一种基于噻吩有机聚合物的神经形态忆阻器及其制备方法

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一种基于噻吩有机聚合物的神经形态忆阻器及其制备方法
申请号:CN202510488426
申请日期:2025-04-18
公开号:CN120018679B
公开日期:2025-07-01
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于噻吩有机聚合物的神经形态忆阻器及其制备方法,属于有机二极管忆阻器件制备领域。所述神经形态忆阻器由上至下包括顶电极、有机活性层、底电极和基底,有机活性层由噻吩有机聚合物聚3‑十二烷基噻吩PQT‑12制备。本发明利用PQT‑12作为关键材料,模拟生物突触的可塑性,实现了高效的信息存储与处理,PQT‑12作为有机活性层,具备优异的电荷保持能力和低功耗特性。本发明制备的忆阻器在开关速度、稳定性和可扩展性方面表现出优异性能,具有广泛的应用前景,尤其在神经形态计算、低功耗存储器件以及人工智能系统等领域。
技术关键词
真空蒸镀系统 电极 玻璃清洗剂 形态 基底 低功耗存储器 十二烷基噻吩 聚合物 人工智能系统 有机二极管 忆阻特性 忆阻器件 旋涂工艺 溶液 烘箱 氧化铟锡 金属铝 臭氧
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