考虑面形精度及轨迹动态特性约束的伪随机抛光轨迹拐角光顺与力速规划方法

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考虑面形精度及轨迹动态特性约束的伪随机抛光轨迹拐角光顺与力速规划方法
申请号:CN202510493515
申请日期:2025-04-18
公开号:CN120315376A
公开日期:2025-07-15
类型:发明专利
摘要
本发明属于机器人光学元件力控抛光技术领域,公开了一种考虑面形精度及轨迹动态特性约束的伪随机抛光轨迹拐角光顺与力速规划方法及系统,通过随机搜索、去除死点、补充残点等方式将所有驻留点连接,生成伪随机轨迹。基于测得的面形数据点和给出的驻留点,通过驻留时间算法计算得到每个驻留点的驻留时间及驻留时间与力的乘积,并相应地转换为速度及速度与力的关系。构建考虑面形精度的拐角光顺优化模型,建立面形精度与轨迹偏移量的关系,以拐角误差容限为优化变量,以粒子群算法作为优化方法,求解在面形精度损失允许范围内的最大拐角误差容限。本发明可实现光学元件面形精度的降低和中频误差的去除,获得高质量的光学元件。
技术关键词
轨迹 拐角 精度 信息数据处理终端 抛光 速度规划方法 时间算法 误差 动态 粒子群算法 规划系统 样条 粒子群优化方法 驻留时间分布 光学元件面形 计算机设备 加速度
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