一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法

本申请公开了一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法，改性装置包括等离子体活化模块、离子束辅助沉积模块、超声波空化模块、真空吸附模块和低温固化单元；改性方法包括S1.等离子体预处理：在混合气氛下，采用Ar+束流轰击纳米二氧化硅表面；S2.原位协同接枝改性：将硅烷偶联剂KH‑570、全氟辛基三乙氧基硅烷及离子液体改性剂混合，超声分散30min后真空吸附定向成膜；S3.离子束辅助沉积导电层：在真空腔体内交替沉积ITO导电层及氟碳壳层；S4.低温固化：采用O‑束流触发氟碳键重排，UV‑LED照射并远红外加热至75℃，交联密度≥85％，制备出的纳米二氧化硅防污镀膜剂有着优异的抗静电、增透性和耐磨性，且附着力较高。