防止光刻机光源的窗片变形的方法、结构、光源及光刻机

本发明涉及半导体光学光刻制造技术领域，提供一种防止光刻机光源的窗片变形的方法、结构、光源及光刻机，该方法利用偏振光学法获取窗片的应力分布信息，并输入至预训练的窗片夹持模型，得到对窗片夹持结构的施加力信息。窗片夹持结构包括密封圈和预应力环；密封圈位于窗片靠近放电腔侧，用于密封；预应力环位于远离放电腔侧，施加预应力使窗片凹陷。密封圈和预应力环的结构及材质参数是调用预设数字孪生模型得到的。本发明的方法通过窗片夹持模型和数字孪生模型优化窗片夹持结构，从而防止光刻机光源的窗片变形，提高光刻机光源的光束质量。