一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法

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一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法
申请号:CN202510503451
申请日期:2025-04-22
公开号:CN120028950B
公开日期:2025-08-05
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法,解决在双面镀膜时,如何精确把握SiO2膜的厚度,达到利用SiO2膜应力来控制薄膜元件面形的问题。本发明通过建立薄膜元件的面形修正数学模型,得到同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的数学模型,随后采用高、低折射率的两种材料制备高陡度滤光片并将其镀在基底前表面,根据基底前表面的高陡度滤光片厚度计算出第一次面形修正的SiO2膜厚度进行第一次面形修正,随后根据薄膜元件的面形修正数学模型计算出第二次面形修正的SiO2膜厚度进行第二次面形修正,根据同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的关系可知,进行两次面形修正,即可达到理想的面形。
技术关键词
薄膜元件 滤光片 修正方法 基底 数学模型 高折射率层 低折射率层 离子束 热蒸发方法 增透膜 干涉仪 应力 真空度 镀膜 泊松比 阳极 电子束 电流 电压
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