摘要
本发明涉及一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法,解决在双面镀膜时,如何精确把握SiO2膜的厚度,达到利用SiO2膜应力来控制薄膜元件面形的问题。本发明通过建立薄膜元件的面形修正数学模型,得到同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的数学模型,随后采用高、低折射率的两种材料制备高陡度滤光片并将其镀在基底前表面,根据基底前表面的高陡度滤光片厚度计算出第一次面形修正的SiO2膜厚度进行第一次面形修正,随后根据薄膜元件的面形修正数学模型计算出第二次面形修正的SiO2膜厚度进行第二次面形修正,根据同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的关系可知,进行两次面形修正,即可达到理想的面形。
技术关键词
薄膜元件
滤光片
修正方法
基底
数学模型
高折射率层
低折射率层
离子束
热蒸发方法
增透膜
干涉仪
应力
真空度
镀膜
泊松比
阳极
电子束
电流
电压
系统为您推荐了相关专利信息
触摸屏显示模块
压铸工艺
数据存储模块
料饼厚度
管控系统
推进控制系统
新能源船舶
误差信息
空间矢量脉冲调制
转子角度信息
感应电机
无速度传感器控制方法
信号
电流
矢量控制技术