一种均匀温控式干法刻蚀机

本发明公开了一种均匀温控式干法刻蚀机，涉及半导体刻蚀技术领域。本发明包括工作台，所述工作台的内壁固定连接有液压杆，所述液压杆的伸缩端固定连接有放置块，所述工作台的顶部固定连接有固定架，所述固定架的内壁固定连接有保护罩，所述保护罩的内壁顶部固定连接有等离子体制造模块，所述保护罩的外壁设置有用于均匀控温的控温装置。本发明通过L形杆、限位圆块、弹簧一、抵触圆块、刮板、U形块、三角块的配合，使刮板沿着圆晶体的边缘进行移动，刮板的移动会将圆晶体边缘的光刻胶清理掉，从而避免光刻胶在刻蚀时产生裂纹，然后脱落，会影响光刻机的焦平面设置，导致圆晶体边缘临近区域曝光不均匀。