水印处理方法、装置、设备、介质和程序产品

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水印处理方法、装置、设备、介质和程序产品
申请号:CN202510578201
申请日期:2025-05-06
公开号:CN120429848A
公开日期:2025-08-05
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种水印处理方法、装置、设备、介质和程序产品。方法包括:响应于用户确定的水印生成指令,获取原始文档和原始水印;对原始文档进行特征提取,得到原始文档对应的结构特征、语义特征和视觉特征;基于结构特征、语义特征和视觉特征,构建自适应强度映射函数;基于原始水印和预设量子参数,构建量子态水印函数;根据自适应强度映射函数、量子态水印函数和预设量子纠缠增强函数,生成目标水印,其中,预设量子纠缠增强函数用于实现原始水印与量子纠缠态的转换。根据本申请实施例,能够根据文档特征自适应调整水印强度,提高水印的安全性,保障文档的安全。
技术关键词
量子态 区块链存证 视觉特征 语义特征 验证特征 水印嵌入 计算机程序指令 重构 融合特征 生成指令 水印特征 链路 强度 计算机程序产品 标识 比特数 记忆 文档特征 电子设备
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