一种适用于中频误差快速收敛的抛光轨迹规划方法

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一种适用于中频误差快速收敛的抛光轨迹规划方法
申请号:CN202510587757
申请日期:2025-05-08
公开号:CN120480769A
公开日期:2025-08-15
类型:发明专利
摘要
本发明涉及精密加工技术领域,尤其是指一种适用于中频误差快速收敛的抛光轨迹规划方法,包括:对加工工件生成均匀分布的点云数据作为待检索点;以待检索点生成伪随机轨迹作为第一抛光轨迹;以平滑拟合后的第一抛光轨迹抛光加工工件,并对抛光后的加工工件进行中频误差检测,得到连续的中频误差分布图像;根据中频误差分布图像提取障碍区域和路径节点;根据障碍区域和路径节点求解得到第二抛光轨迹;以平滑拟合后的第二抛光轨迹再次抛光加工工件。本发明有效提高了中频误差的收敛速率和效果。
技术关键词
轨迹规划方法 抛光 误差 参数 矩阵 工件 颜色 节点连线 网格 拟合算法 图像像素 共线 像素点 速度 外包 样条
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