摘要
本发明公开了一种基于钙钛矿量子点的微纳光致发光点阵制备方法,属于微纳加工技术领域。该方法通过显微光刻技术,结合紫光激光诱导量子点原位改性原理,实现高精度图案化控制。具体包括:在玻璃基底上旋涂钙钛矿量子点薄膜后,采用紫光激光器与微缩光路系统,通过两次正交曝光将掩模版图案缩微投影至薄膜表面,利用高能紫光引发量子点表面配体脱落,进而引发量子点团聚及晶体相变,使曝光区域发生相变并丧失光致发光性能,最终在未曝光区域形成微纳光致发光点阵。本发明摒弃传统光刻胶与刻蚀工艺,具有工艺简单、成本低、分辨率高等优势,适用于防伪标识、显示器件、光传感芯片及柔性电子器件的图案化制造,兼具环保性与规模化生产潜力。
技术关键词
钙钛矿量子点薄膜
光致发光
定焦光学镜头
紫光激光器
光路系统
玻璃基底表面
模版
钙钛矿量子点溶液
量子点表面配体
显微光刻技术
光传感芯片
激光雕刻法
柔性电子器件
防伪标识
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