摘要
本发明公开了一种金属衬底晶圆的切割方法,涉及半导体技术领域,包括以下步骤:在金属衬底晶圆的背面蒸镀金属材料形成第一切割保护层;在第一切割保护层上旋涂水溶性切割保护液,干燥后形成第二切割保护层;采用第一激光光束在第二切割保护层上切割形成第一沟槽;采用第二激光光束沿第一沟槽的位置继续切割形成第二沟槽;清洗去除第二切割保护层,从而完成金属衬底晶圆的背面切割。本发明通过第一切割保护层和第二切割保护层的相互配合,并分步进行激光切割,不仅能够有效防止碎屑、熔渣等残留在芯粒边缘,还能够有效缩小热影响区的产生范围,可以显著提高金属衬底晶圆的切割良率和提高芯粒的封装良率。
技术关键词
金属衬底
切割方法
沟槽
切割保护液
槽口宽度
水溶性紫外吸收剂
隔离墙
光束
激光
水溶性树脂
晶圆背面
金属材料
芯片
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调节剂
去离子水
抗氧剂
熔渣
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