一种二极管及其制作方法

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一种二极管及其制作方法
申请号:CN202510608901
申请日期:2025-05-13
公开号:CN120129254B
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种二极管及其制作方法,涉及半导体技术领域。该二极管包括位于外延片表面的终端区与有源区;有源区包括复合结构与多个P柱,多个P柱之间间隔设置,复合结构包括第一P区与位于第一P区两侧的第二P区、第三P区,第一P区、第二P区以及第三P区间隔设置,第一P区的宽度大于第二P区、第三P区以及P柱的宽度,第二P区、第三P区的底部设置为阶梯型,且第二P区、第三P区的深度大于第一P区的深度;其中,当二极管处于浪涌电流工况时,第一P区用于提供浪涌电流主通道,第二P区与第三P区用于分摊部分浪涌电流。本申请具有实现了标称正向传导能力、浪涌电流处理能力以及单位芯片成本之间的平衡的优点。
技术关键词
复合结构 有源区 沟槽 外延片表面 钝化保护层 二极管制作方法 欧姆接触层 阶梯型 电流 工况 间距 尺寸 台面 芯片 定义
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