基于暗场成像的气体突破盖层非线性渗流实验方法及装置

本发明涉及一种基于暗场成像的气体突破盖层非线性渗流实验方法，将微流控岩石芯片放在暗场散射显微镜载物台上；将微流控岩石芯片注入端与流体注入模块相连、出口端与下游流出管路相连接；将地层水溶液注入微流控岩石芯片直至其被地层水溶液充满；打开注气系统，调好暗场散射显微镜直至获得微流控岩石芯片孔隙结构以及二氧化碳驱替地层水的清晰图像；向微流控岩石芯片注入不同压力的二氧化碳，观测微流控岩石芯片中二氧化碳和地层水的非线性渗流运移图像；当观测到二氧化碳运移至岩石芯片出口端时，即为突破时刻，此时微流控岩石芯片的上、下游压力差值即为突破压力。本发明可精准观察纳米孔隙中二氧化碳驱替地层水的非线性渗流，并确定突破压力。